印制电路板铜面保护层对无铅焊点结构影响(图)
http://www.weld21.com 2007-01-18 13:19 

摘 要:采用扫描电镜与能谱测试,研究了两种不同印刷电路板铜面保护层,即有机保护层(Organic Solderability Preservatives,OSP)与浸银层( Immersion Ag, I - Ag) , 对无铅焊点结构的影响。结果显示,采用有机保护层的焊接界面金属间化合物层厚度明显超过了浸银层;在两种不同保护层中的焊点中,均出现薄片状或树枝状Ag3 Sn金属间化合物,但在浸银层焊点中,薄片状Ag3 Sn主要在焊接界面层处非均匀形核长大,而有机保护层焊点中,薄片状Ag3 Sn较少出现,代之以树枝状Ag3 Sn近似均匀地分布在焊点中。断口分析显示,采用有机保护层的焊点中出现了较多的气孔,而且气孔主要出现在靠近铜面焊点中,这明显降低了焊点的强度。
关键词: 无铅焊接;铜面保护层;焊接界面;金属间化合物

  随着2006年7月欧盟关于所有进入该市场的电子电器产品必须满足无铅化的法令期限的临近,电子产品的无铅制程受到生产厂家越来越多的关注。尽管许多的研究表明无铅组装是可行的,而且有某些有利的特点,但电子组装业在完全实行无铅化前,还有许多问题需要解决,其中重要的一点就是如何较好地保证印制线路板与无铅合金的有效兼容。从电子学特性来看, Sn - Ag - Cu被认为是很有希望取代共晶Sn - Pb的合金系,该合金在铜面上有较好的润湿性能,能形成良好的焊点,而且其热机性能也超过了共晶Sn - Pb合金。为保证与Sn - Ag
- Cu在组装过程中保持较好的润湿特性,必需在组装前对印制线路板的铜面进行表面处理,处理的方式是添加保护层,如有机保护层(OSP) 、浸银层( Im2mersion Ag, I - Ag) 、浸金层( Immersion Au, I - Au) 、化学镀Ni/Au层等,其中使用较多的是有机保护层与浸银层,而采用这两种保护层对无铅焊点结构影响的研究目前还未见报道。为此,结合实际生产中的无铅表面贴装技术制程,研究了印制电路板铜面保护层对无铅Sn - Ag - Cu焊点结构的影响。
1 实验过程
  采用合金成分为Sn - 3. 0 %Ag - 0. 5 %Cu (质量百分比) 、助焊剂为松香的无铅锡膏,把1. 2 mm厚的印制电路板与球栅列阵BGA元件,按照表面贴装技术工艺进行焊接处理,即真空包装的印制电路板开封、通过锡膏模板印刷、再过回流焊炉。印制电路板的铜面采用两种不同的保护层,即有机保护层和浸银层。回流焊过程中的保温区温度为218 ℃,峰值温度为235 ℃。经过回流焊处理后制成一系列无铅的BGA /Cu焊接样品。采用拉伸试验的方法把BGA与印制电路板分离,然后在扫描电镜下观察焊点断裂方式与断口的变化情况,以确定铜面保护
层对焊点的断裂方式影响,拉伸速率为0. 5 mm /min。为确定铜面保护层对焊点结构的影响,在印刷电路板的相同位置处把BGA /Cu焊接样品切割,经过抛光后,采用φ (HNO3 ) 5 % +φ (HCl) 2 % +φ(H2O2 ) 0. 5 %混合酸溶液进行腐蚀处理,再用体积分数为25 %硝酸酒精溶液微蚀。对经过腐蚀处理后不同焊接样品, 采用附带INCA EDS 的JEOLJSM6360扫描电镜( SEM)进行观察与分析。
2 试验结果与分析
  采用有机保护层保护的无铅焊点通过拉伸试验后,大量焊点在靠近铜面处断裂如图1 ( a)所示,显示出无铅焊点的强度低于铜面与印制电路板的结合强度;对断裂的焊点断口观察显示,焊点中出现较多的气孔如图1 ( b) ,这些气孔大小不一,而且气孔中有助焊剂残渣。而采用浸银层保护的无铅焊点通过拉伸试验后,多数铜面被拔出如图1 ( c) ,显示出焊点的强度高于铜面与印制电路板的结合强度;对断裂的焊点观察显示如图1 ( d) ,断口表现较为平整,
出现的气孔比较少。
  有机保护层焊点中出现气孔的主要原因在于:有机保护层经过回流焊炉时发生分解产生气体,这些气体由于来不及排出而在界面附近形成气孔。当焊点受外力作用时,在气孔处产生应力集中并形成微裂纹,微裂纹然后发生扩展并长大,并最终导致焊点断裂,因此降低了焊点的强度。


图1 拉伸试验后无铅焊点的断口扫描电镜分析

  对不同保护层焊接样品,采用深腐蚀处理,把覆盖在铜面上的锡合金腐蚀掉, SEM观察显示出卵石形颗粒形貌如图2所示,能谱测试显示,这些颗粒是Cu6 Sn5 相,这与有铅焊相类似。但统计分析表明,采用有机保护层后,焊点中Cu6 Sn5 相颗粒的平均直径达2. 696μm,比采用浸银层焊点中颗粒的平均直径(平均为1. 945μm)提高了30 %。

图2 铜面上Cu6 Sn5 相形貌

  焊点切片试验后,扫描电镜分析显示,焊点中均存在薄片状或树枝状Ag3 Sn如图3 所示。薄片状Ag3 Sn主要在焊接界面层上形核长大,但浸银层焊接界面层上出现大量的薄片状Ag3 Sn如图3 ( c) 、图3 ( d)所示。这表明在浸银保护的焊接界面层上,Ag3 Sn更易于非均匀形核长大。能谱分析显示焊接界面层由金属间化合物( IMC) Cu6 Sn5 相以及Cu3 Sn组成,采用有机保护层的焊接界面层厚度平均为10μm,明显高于浸银层焊接界面层厚度(平均为5μm) 。另外分析也显示,在有机保护层焊接界面上有气孔产生如图3 ( a) 、图3 ( b)所示,这进一步证实了断口观察的结果。

图3 焊点切片结构扫描电镜图

  印制电路板通过回流焊炉后,在高温的作用下,有机保护层发生分解,锡银铜合金熔化并与铜面发生反应生成Cu6 Sn5 ,随着反应的进行,铜面上的Cu与锡银铜合金中的Sn进一步发生互扩散,使得靠近铜面上的Cu6 Sn5 相化学成分发生变化并最终形成Cu3 Sn相,而靠近焊点端的Cu6 Sn5 相进一步长大。当保护层为浸银层时,由于Ag的阻挡作用,铜面上的Cu与锡银铜合金中的Sn的相互扩散速度减小,Cu6 Sn5 相长大速度降低,界面层的厚度增长速度也就相应地降低;另外,由于铜面上的Ag在经过回流焊炉时发生熔化并附着在某些Cu6 Sn5 相上,这些表
面含Ag的Cu6 Sn5 相成为非均匀形核点,随着反应的进行,非均匀形核点中的Cu向外扩散,而焊点中的Ag、Sn向焊点中的形核点扩散,最终形成Ag3 Sn相并进一步长大如图3 ( d)所示,至于Ag3 Sn相成片状长大可能是由于Ag3 Sn相具有特定的惯习面,这些惯习面具有形核能低的特点,易于使Ag3 Sn沿着惯习面长大。
3 结论
  印制电路板铜面保护层对无铅焊点的结构产生了影响。采用有机保护层的无铅焊点中气孔大小与数量明显超过浸银层。有机保护层保护的焊点主要在靠近铜面处断裂。界面分析显示采用有机层保护的焊界面层厚度超过了浸银层焊点。采用浸银层的焊接界面上有大量的薄片状Ag3 Sn金属间化合物,这种化合物成薄片状生长。

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